根據(jù)某環(huán)境研究所提供的資料顯示，在實驗室條件下，采用UV光解工藝對單一的有機廢氣物質(zhì)或惡臭氣體物質(zhì)嚴格控制進氣濃度、氣量及其他條件時，UV光解設(shè)備功率充足的情況下，測得UV光解凈化效率均可達到99%以上。
  但實際運用過程中，由于受到各種因素或者條件的影響，如廢氣成分復(fù)雜，廢氣濃度不穩(wěn)定或者不能達到uv光解凈化設(shè)備所需最適用的范圍(濃度過高或過低均會影響其凈化去除率)，風量、氣壓、溫度、濕度等環(huán)境條件不穩(wěn)定或者達不到UV光解設(shè)備凈化的要求，廢氣預(yù)處理做的不夠理想，后續(xù)排放管道沒有留夠充足的氧化反應(yīng)管道等等，導(dǎo)致UV光解凈化設(shè)備的凈化效率參差不齊，差異很大，甚至在滿足所有外在條件的基礎(chǔ)上，處理不同成分的廢氣其凈化效率也有差別。所以很難單純的去界定一套UV光解凈化設(shè)備對廢氣的凈化去除率，我們只能說盡量的去調(diào)整影響UV光解凈化設(shè)備凈化率的各種因素，盡量的去提高UV光解凈化工藝的凈化效率。接下來我們詳細說說影響uv光解廢氣處理設(shè)備凈化效率的5大因素。
      uv光解凈化設(shè)備凈化效率
  1.廢氣濃度的影響：UV光催化處理VOCs適用于噴涂車間、印刷、電子、制藥、食品等行業(yè)產(chǎn)生的低濃度有機廢氣。當濃度低于20.200ppm時，效果良好。隨著VOCs濃度的增加，降解效率也隨之降低。目前，185nm和254nm波段的真空紫外燈得到了廣泛的應(yīng)用，這是由于真空紫外燈所發(fā)射的紫外能量強度有限，單位時間光解能量不足，效率降低所致。因此，單純增加管數(shù)不能解決有機氣體濃度過高的問題，紫外光解技術(shù)不適合高濃度的VOCs氣體。
  2.低相對濕度的影響：在一定濕度下，氧氣吸收了185nm紫外線的大部分，但隨著濕度的進一步增加，部分原因是水蒸氣和氧氣競爭吸收185nm紫外線，水蒸氣吸收了更多的185nm紫外線，同時產(chǎn)生更多的羥基自由基。水蒸氣與活性氧反應(yīng)生成羥基自由基。羥基自由基的氧化比臭氧和活性氧強，因此光降解速度明顯加快，促進了單位時間內(nèi)廢氣去除率的提高。試驗表明，在30-65%的相對濕度范圍內(nèi)，光降解效率提高，在70%以上時，光降解效率降低。
  3.風速和一定濕度差的影響：大量實驗表明，風速越大，水汽進出口的一定濕度差越小。這也意味著風速越大，產(chǎn)生的羥基自由基就越少。因此，在風速較小的情況下，羥基自由基對VOCs的貢獻較大。在風速較大的情況下，羥基自由基對VOCs降解的影響非常有限。在設(shè)備試驗中，風速小于2m/s時，反應(yīng)效果良好。風速大于6m/s時，水汽進出口的濕度差很小，光催化效率很低。在一定的設(shè)備空間內(nèi)，風速同時影響著停留時間。一般情況下，停留時間增加，廢氣的去除率顯著提高。其原因是停留時間增加，185nm紫外光與有機物的碰撞次數(shù)增加。當停留時間達到10s時，隨著停留時間的延長，廢氣的降解效率并沒有顯著提高。因此，在低濃度下，延長停留時間并不能提高廢氣的去除效率。
  4.光源的選擇及影響：目前一般選用185nm和254nm的真空紫外燈。市場上紫外線燈的質(zhì)量各不相同。真空紫外設(shè)備進口風速影響紫外燈表面溫度。燈的表面溫度直接關(guān)系到紫外燈的發(fā)光效率。當燈具表面溫度高于一定值時，會直接影響發(fā)光效率。隨著風速的增加和臭氧濃度的降低，臭氧的產(chǎn)生沒有明顯的變化，說明真空紫外線已經(jīng)以3m/s的速度被空氣中的氧氣完全吸收，燈本身產(chǎn)生的臭氧也沒有隨著進氣量的增加而明顯增加。在自然狀態(tài)下，臭氧和甲苯之間沒有化學反應(yīng)。臭氧與真空紫外結(jié)合對許多有機廢氣有降解作用。254 nm的紫外光可以促進臭氧產(chǎn)生氧自由基，從而可以氧化廢氣分子。空氣中的臭氧和水汽會產(chǎn)生羥基自由基，從而氧化甲苯和其他廢氣。
  5.合理的設(shè)備空間布局和結(jié)構(gòu)：凈化設(shè)備制造中也存在一些問題。目前，UV光催化處理VOCs設(shè)備的自動化水平較低，基本上沒有自動檢測和監(jiān)控功能，無法有效評價產(chǎn)品的整體效果。為了合理處理催化劑的布置和用量，*確處理透明度和氣體流量，進行合理的能量匹配和結(jié)構(gòu)優(yōu)化，否則，許多設(shè)備的有效去除率遠遠不夠。
  在以上各種因素都比較適宜的條件下，UV光解凈化系統(tǒng)在實際運用中是可以達到90%以上的，甚至某些成分的廢氣其凈化效率可以達到95%以上甚至更高。